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韓国人「昇進に落ちたからって…」中国に半導体技術を流出させた元社員に実刑判決、韓国の反応は？
昇進に落ちた腹いせに中国へ半導体技術を流出させたとして起訴された国内企業の元社員らに実刑判決が下されました。
大田高裁第1-1刑事部（パク・ジンファン部長判事）は本日（19日）、産業技術の流出防止および保護に関する法律違反などの容疑で起訴された国内某企業の元研究員である50代のA氏に対し、一審と同じ懲役2年6ヶ月を言い渡しました。
共犯として起訴された2人には、一審よりも重い懲役1年6ヶ月、懲役2年・罰金2千万ウォンがそれぞれ言い渡されました。
A氏らは2019年から2020年にかけて、コンピューターや業務用携帯電話で会社の内部ネットワークに接続し、半導体ウェハー研磨工程図など会社の機密資料を閲覧。それを個人携帯電話で撮影するなどの手口で資料を確保し、中国企業に流出した疑いで裁判にかけられました。
主犯であるA氏は、2018年の役員昇進に落選した後、2019年6月に中国企業と半導体ウェハー研磨剤（CMPスラリー）製造事業を共同で行うことを約束。その後も会社に勤務しながら、メッセンジャーなどで中国内の研磨剤生産設備の構築や事業を管理していたことが明らかになりました。
さらに、他の会社の研究員である一部の共犯者たちを勧誘し、中国へ転職させていました。
一審裁判部は、「被害企業が技術研究・開発に投じた多大な努力と費用を無駄にし、関連分野の健全な競争と取引秩序を深刻に阻害し、国家産業競争力に悪影響を与える重大な犯罪である」とし、A氏に懲役2年6ヶ月を言い渡しました。共犯2名にはそれぞれ懲役2年執行猶予3年、懲役1年6ヶ月執行猶予2年が言い渡されました。
控訴審裁判部は、A氏に対する双方の控訴をすべて棄却し、共犯者の刑が軽すぎるという検察の主張を受け入れました。
二審裁判部は、「計画的かつ組織的な犯罪であり、半導体業界全体に警鐘を鳴らし、将来の類似犯罪を防止する必要がある」とし、「流出した資料が国家核心技術に該当しないという被告人らの主張は受け入れられない」と判示しました。
引用元記事:https://n.news.naver.com/article/057/0001954653
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